공과대학 - 공과대학

  • 교수 나노소재합성및소재공정
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관심분야

플라즈마 공정 및 진단 기술 (Plasma Processing & Diagnostics) 
OLED 디스플레이 공정 기술 (박막봉지공정, 유기박막 용액공정 기술) 
양자점 및 기능성 나노입자 재료 합성 및 이를 응용한 발광 다이오드 개발 
그래핀 저온 증착 및 용액 공정 개발

학력

  • (Ph.D.) 공학박사 (M.I.T. ,2000)

약력/경력

  • Applied Materials, Senior Process Engineer (2000-2004)

학술지 논문

  • (2023)  Plasma atomic layer etching of ruthenium with surface fluorination and ion bombardment.  PLASMA PROCESSES AND POLYMERS.  21,  2
  • (2023)  Surface wettability control and fluorination modeling of amorphous carbon films fluorinated with CF4 plasma.  APPLIED SURFACE SCIENCE.  635,  1
  • (2023)  Spectral clustering algorithm for real‐time endpoint detection of silicon nitride plasma etching.  PLASMA PROCESSES AND POLYMERS.  20,  6
  • (2023)  Hydrogenated amorphous carbon films deposited using plasma enhanced chemical vapor deposition processes.  KOREAN JOURNAL OF CHEMICAL ENGINEERING.  40,  6
  • (2022)  Low Global Warming C4H3F7O Isomers for Plasma Etching of SiO2 and Si3N4 Films.  ACS SUSTAINABLE CHEMISTRY & ENGINEERING.  10,  32
  • (2022)  Quantitative Analysis of Mass Spectrometric Signals for the Estimation of Fluorine Radical Densities in CF4 and CF4/O-2 Plasmas.  PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING.  42,  4
  • (2022)  Atomic layer etching of Al2O3 with NF3 plasma fluorination and trimethylaluminum ligand exchange.  JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A.  40,  3
  • (2022)  Plasma atomic layer etching for titanium nitride at low temperatures.  JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B.  40,  2
  • (2022)  Low-temperature plasma atomic layer etching of molybdenum via sequential oxidation and chlorination.  JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A.  40,  2
  • (2021)  Characterization of sp(2)/sp(3) hybridization ratios of hydrogenated amorphous carbon films deposited in C2H2 inductively coupled plasmas.  SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY.  422,  1
  • (2021)  Etching characteristics of hydrogenated amorphous carbon with different sp(2)/sp(3) hybridization ratios in CF4/O-2 plasmas.  PLASMA PROCESSES AND POLYMERS.  18,  11
  • (2021)  Enhancing the efficiency of solution-processed inverted quantum dot light-emitting diodes via ligand modification with 6-mercaptohexanol.  OPTICS LETTERS.  46,  6
  • (2020)  Efficiency Enhancement of Tris(dimethylamino)-phosphine-Based Red Indium Phosphide Quantum-Dot Light-Emitting Diodes via Chlorine-Doped ZnMgO Electron Transport Layers.  JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C.  124,  46
  • (2020)  Synthesis of Blue-Emissive InP/GaP/ZnS Quantum Dots via Controlling the Reaction Kinetics of Shell Growth and Length of Capping Ligands.  NANOMATERIALS.  10,  11
  • (2020)  Tetrahydrofuran as Solvent for P3HT/F4-TCNQ Hole-Transporting Layer to Increase the Efficiency and Stability of FAPbI3-Based Perovskite Solar Cell.  JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C.  124,  26
  • (2020)  Radical analysis and residence-time effect of silicon nitride atomic layer deposition processes with trisilylamine and NH3 plasmas.  APPLIED PHYSICS EXPRESS.  13,  6
  • (2020)  Flexible Al2O3/plasma polymer multilayer moisture barrier films deposited by a spatial atomic layer deposition process.  JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A.  38,  2
  • (2020)  Plasma atomic layer etching of SiO2 and Si3N4 with heptafluoropropyl methyl ether (C3F7OCH3).  JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A.  38,  2
  • (2020)  Improvement in the moisture barrier properties and flexibility by reducing hydrogen dangling bonds in SiNx thin films with plasma surface treatment.  SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY.  383, 
  • (2020)  Sensitivity Enhancement of SiO2 Plasma Etching Endpoint Detection Using Modified Gaussian Mixture Model.  IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING.  33,  2

특허/프로그램

  • Light-Emitting Structure, Optical Member Having The Light-Emitting Structure, Light-Emitting Device, and Liquid Crystal Display Apparatus.  16/031,145.  20210126.  미국
  • 흡습성 박막을 포함하는 봉지 부재 및 이를 포함하는 유기 전자 장치.  10-2019-0009557.  20200302.  대한민국
  • 무기나노입자 구조체를 포함하는 조성물, 이를 이용한 광변환 박막 및 이를 이용한 디스플레이 장치.  10-2018-0045409.  20191230.  대한민국
  • 무기나노입자 구조체를 포함하는 조성물, 이를 이용한 광변환 박막 및 이를 이용한 디스플레이 장치.  10-2018-0045372.  20191226.  대한민국
  • 플라즈마 공정의 식각 종료점 진단방법.  10-2017-0014025.  20180831.  대한민국
  • Electroluminescent Diode Having Delayed Fluorescence Quantum Dot.  15/374405.  20180220.  미국
  • 무기나노입자 구조체, 이를 포함하는 박막, 광학 부재, 발광 소자 및 양자점디스플레이 장치.  10-2017-0091066.  20180205.  대한민국
  • 발광 구조체, 이를 포함하는 광학 부재, 발광 소자 및 액정표시장치.  10-2017-0087045.  20180130.  대한민국
  • 유기발광소자용 봉지막 및 광원 유닛.  10-2016-0130018.  20170922.  대한민국
  • 전기분무를 이용한 발광소자 제조 방법.  10-2015-0175695.  20170407.  대한민국
  • 광경화성 수지 조성물, 이를 이용한 휘도 강화 필름 및 이를 포함하는 액정 표시 장치.  10-2015-0166471.  20170306.  대한민국
  • 형광체 코팅용 고형 복합체 및 이의 제조 방법.  10-2015-0012168.  20161227.  대한민국
  • 지연형광-양자점 전계발광다이오드.  10-2015-0176095.  20160623.  대한민국
  • 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출방법.  10-2014-0096627.  20160119.  대한민국
  • 유기전자소자용 폴리머/무기 다층 박막 봉지.  10-2014-0017311.  20150716.  대한민국
  • 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 진단방법.  10-2015-0002503.  20150624.  대한민국
  • 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출 방법.  10-2014-0073093.  20150611.  대한민국
  • 초극유연성 봉지 박막.  2014-0015730.  20141119.  대한민국
  • 패턴 형성 장치.  2013-0024781.  20140819.  대한민국
  • 패턴 형성 장치.  2012-0092448.  20140423.  대한민국

수상/공훈

  • 한국화학공학회 평의원
  • 한국진공학회 운영이사장